Influence of a laser intensity on EUV brightness and ion speed from a laser-assisted discharge-produced plasma

Fuki Sato¹, Akihisa Nagano¹, Yusuke Teramoto<sup>2

1</sup>Ushio Inc. 
²Ushio Germany
 

EUV光源は、最先端の半導体製造プロセスで利用されている。ウシオ電機は、EUVマスク検査や材料評価装置向けにレーザーアシスト放電生成プラズマ(Laser-assisted Discharge-produced Plasma：LDP)光源を提供してきた。LDP光源では、液体スズが塗布された電極にパルスレーザーを照射することで放電を開始し、ピンチ現象と呼ばれるプラズマの圧縮現象により、EUVを発光する高温、高密度のスズプラズマを生成している。一般に、プラズマ光源は、光だけでなく高速のスズイオンも放出する。高い運動エネルギーを持つイオンがEUV光学系に衝突すると、その表面に損傷を与える可能性があるため、EUVとイオンの両特性を理解する必要がある。レーザー照射条件は放電の初期状態を決めるため、結果的にEUV発光とイオン生成に強い影響を与える。本研究では、レーザー強度がEUVとイオンの運動エネルギーに与える影響を調べた。結果として、25 GW/cm²以上のレーザー強度で高いEUV輝度が得られ、イオン速度は低減されることが示された。


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