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特集　第7回光源の科学と技術に関する国際会議

誘電体バリア放電を利用したAr，Krエキシマランプの開発
DEVELOPMENT OF Ar，Kr，EXCIMER LAMPS USING DIELECTRIC BARRIR DISCHARGE 1995
  • 投影・バックライト

特集　第7回光源の科学と技術に関する国際会議

高分光放射輝度光源
HIGH RADIANCE LAMPS 1995
  • 投影・バックライト

特集　第7回光源の科学と技術に関する国際会議

高効率カドミウムイオンランプ
CADMIUM ION LAMPS WITH HIGH RADIANT EFFICIENCY 1995
  • 投影・バックライト

社内講演会　ウシオ電機(株)横浜事業所

印刷技術と光 1997
  • 投影・バックライト

■電子材料97年10月号

〈全冊特集〉多様なニーズに応えるプリント配線板 製造・プロセス編 分割投影露光装置
「UX-5023SM」 1998
  • 投影・バックライト

特集 放電ランプ

第三章／超高圧水銀ランプ
3. 超高圧水銀ランプ 1998
  • 投影・バックライト

特集 放電ランプ

第七章／産業への応用
7. 産業への応用 1998
  • 投影・バックライト

第59回 応用物理学会／学術講演会 1998年（平成10年）秋季
17a-P2-1

Ti:Al2O3レーザー（773.6nm）の
4倍波シーディングによる
ArFレーザースペクトルの狭帯域化 1999
  • 投影・バックライト

第59回 応用物理学会／学術講演会 1998年（平成10年）秋季
17a-P2-4

Nd:YAG4倍波発生における
CsLiB6O10とβ-BaB2O4の性能比較 1999
  • 投影・バックライト

レーザー学会学術講演会／第19回年次大会
28aV4

CBO結晶の育成と評価 1999
  • 投影・バックライト

レーザー学会学術講演会／第19回年次大会
28aV5

CsLiB6O10のType1和周波発生における
NCPM波長の温度依存性 1999
  • 投影・バックライト

4th International Symposium on 193nm Lithography

ArF Excimer Laser for 193 nm Lithography 1999
  • 投影・バックライト

Electronic Journal ’99／3月号［1999年3月15日］

特集●CSP・BGA・ベアチップ実装
《ウシオ電機のプリント配線板用露光装置》
次の主役はステップ&リピート方式
フレキシビリティと高精度で挑む 1999
  • 投影・バックライト

照明学会公開研究会「新しい短波長光源・材料技術」

CLBOによる全固体深紫外レーザー光源
All-solid-state, deep-UV laser source using CLBO crystals 2000
  • 投影・バックライト

第3回マイクロマシンシステム／MEMSセミナー

一括投影露光装置 2000
  • 投影・バックライト

第60回応用物理学会学術講演会
21aⅢ4

露光用3kz ArF エキシマレーザーの開発
3kHz ArF excimer laser for 193nm lithography 2000
  • 投影・バックライト

レーザー学会学術講演会第20回年次大会
第60回応用物理学会学術講演会　講演予稿集（1999. 9. 甲南大学）
1p―H―1

露光用2kHz ArF エキシマレーザーの開発
2kHz ArF excimer laser for 193nm lithography 2000
  • 投影・バックライト

レーザー研究　’99／8号

CsLiB6O10結晶（CLBO）を用いた193nm光源の開発
193 nm Generation by Optical Frequency Conversion Using
CsLiB6O10 Crystal(CLBO) 2000
  • 投影・バックライト

Advanced High-Power Lasers and Applications

High power, narrowband, DUV laser source
by frequency mixing in CLBO 2000
  • 投影・バックライト

第61回応用物理学会学術講演会

次世代露光用ロングパルスF2レーザーの開発
Development of F2 laser with long-duration-pulse for next-generation photolithography 2000
  • 投影・バックライト

エレクトロニクス実装学会

プリント板用分割投影露光装置の
最新技術動向 2000
1101
2024年(0)
2023年(0)
2022年(0)
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2000年(0)
1999年(0)
1998年(0)
1997年(0)
1996年(0)
1995年(0)
露光装置用光源ユニット 「マルチライト」
検査用光源ユニット「arctruth　（旧オプティカルモデュレックス、230VILS）」
エキシマランプ/エキシマ光照射ユニット
チャージイレース装置
プリンティング市場向けハロゲンヒーター
Barcoシネマプロジェクター用クセノンランプ
データプロジェクタ用ランプ
超高圧UVランプ（500W～35kW）
紫外線照度計「UIT-201」
紫外線積算光量計「UIT-250」
分光反射率計「URE-60」
分光放射照度計「USR-45シリーズ」
紫外線薄型照度計「UIT-θシリーズ」
クセノンショートアークランプ（～500W）
超高圧UVランプ（～500W)
Deep UVランプ
コンパクトクセノンランプ
光化学反応用実験装置
マスクアライナー「UX-1シリーズ」
プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」
投影露光装置「UX-4シリーズ」
ロールtoロール投影露光装置「UFXシリーズ」
EUV光源 (次世代半導体用マスク検査および各種開発用途向け)
照明用LED電球
照明用ハロゲンランプ
照明用クセノンランプ
集魚灯
警告灯
一般施設照明
景観・ディスプレイ照明
ステージ演出照明
バンケット演出照明
海洋・漁業照明
植物育成用照明
セキュリティ用照明
プラスチック射出成形機
金型監視装置
継手・配管
プラスチック樹脂
ファクトリーオートメーション
デジタルシネマ用プロジェクターおよび関連機器
音響システム
シネマサーバ
会議室・大ホール向けプロジェクターおよび関連機器
3D（立体視）向けプロジェクターおよび関連機器
シミュレーション用プロジェクターおよび関連機器
コントロールルーム（監視制御）向け映像機器
バーチャルリアリティ（VR）用プロジェクターおよび関連機器
デジタルサイネージ向け映像機器
イベント・ レンタルステージ用プロジェクターおよび関連機器
ハロゲンランプヒータ
多目的均一照射ユニット「Deep UV マルチライト」
瞬間加熱・高温焼成 フラッシュランプアニール
分割投影露光装置「UX-5シリーズ」
スポットUV照射装置 「スポットキュアシリーズ」
紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード」
面照射UV-LED照射器「UniCube Mシリーズ」
印刷用UV-LED「UniJetシリーズ」
ライトガイド式 画像処理用ライン光源
紫外線治療器「セラビームシリーズ」
可視化用シートビームレーザー光源
光オゾン脱臭・除菌装置「XEFIRIA（ゼフィリア）」
SONYシネマプロジェクター用クセノンランプ
NECシネマプロジェクター用クセノンランプ
高度清浄加湿装置「うるおリッチ」
光微細加工
ウシオの環境衛生向けUVソリューション
LED方式平行光UV照射ユニット　UV-LED  Multi
オールインワン オンサイト卓上検査装置
光配向装置
各種製造プロセス向けUV-LED照射装置
405nm ファイバー出射型レーザーダイオード照射機 【お客様への貸し出しのご案内】
大気圧プラズマ用　リアクター
ウシオのレーザーダイオード
LED素子／パッケージ
抗ウイルス・除菌用紫外線照射装置「Care222®　i（アイ）シリーズ」
ウシオの光加熱（サーマルプロセス）ソリューション
Hyperion Laser Illumination Systems
Necsel NovaLum 1200
Necsel NovaLum 250
Necsel NovaLum　IR-RGB-V
Blue 445 5.5W Laser
Blue 445 10W Laser
Blue 465 4.6W Laser
Blue 465 9W Laser
VHP Blue 445 Laser
VHP Blue 465 Laser
Necsel NovaTru Chroma 633 SLM
Necsel NovaTru Chroma 647
Necsel NovaTru Chroma 785
Necsel NovaTru Chroma 830
Necsel NovaTru™ Power 375
Necsel NovaTru™ Power 488
Necsel NovaTru™ Power 515
Necsel NovaTru™ Power 520
Necsel NovaTru™ Power 633
Necsel NovaTru™ Power 637
Necsel NovaTru™ Power 660
Necsel NovaTru™ Power 785
Necsel Green 525 5W Laser
Necsel Green 525 3.5W Laser
VHP　Green Laser 525
NECSEL SHG GREEN LASER 52X
NECSEL SHG GREEN LASER 53X
NECSEL SHG GREEN LASER 54X
NECSEL SHG GREEN LASER 55X
Necsel Yellow Laser 577 NM
Necsel Red Laser 63x
Necsel Red 65x 7W Laser
VHP Red 637 Laser 
DEVELOPER'S　KIT
Direct Diiode DEVELOPER'S　KIT
SHG Developer’s Kit
DEVELOPER'S　KIT(Thermai Platform)
TRANSPORT FIBER(400μm 0.22NA)
TRANSPORT FIBER(600μm 0.22NA)
TRANSPORT FIBER(1mm)
COLLIMATIONLENS
MATING BARREL
HOMOGENIZING ROD
ウシオのレーザーモジュール
高輝度白色光発生技術(LDP)とは？
マルチカラーレーザーモジュール　Novalumの波長カスタム
25W 青色レーザーモジュール
高輝度白色光発生技術「LDP」の特長は？
ウシオの固定式蛍光体プレート
高輝度白色光だからできること
高輝度白色光のアプリケーション
15,000ルーメン高輝度白色光源モジュール
スペクトル設計自在なLDP+LEDハイブリッド光源
Care222® 抗ウイルス・除菌用UV光源モジュール
Organs On Chip（OoC）
Necsel NovaTru Chroma 785/830　High power
μLens　テクノロジー
VPSL
FiberMax
FiberTec
SpectraTec
MiniLase
MiniLase plus
Chromalase
高密度実装マルチチップLEDパッケージ(MACs)
TECビルトインTO-56パッケージ
TECビルトインバタフライパッケージ
[開発中]　バイオメディカル用V/C/R 3波長超小型パッケージ（Bio-TOSA)
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