2008年発刊インデックス

SPIE, 2005 International EUVL Symposium

Xe- and Sn-fueled Z-pinch EUV source
development aiming at HVM

SPIE, 2006 International EUVL Symposium

Development of Xe-and Sn-fueled high-power Z-pinch
EUV source aiming at HVM

SPIE, 2006 International EUVL Symposium

Development of high-power Sn-fueled
DPP EUV source for enabling HVM

SPIE, 2007 International EUVL Symposium

Development of Sn-fueled high-power DPP EUV source
for enabling HVM

SPIE, 2007 International EUVL Symposium

High-power DPP EUV source
development toward HVM

平成18年度 EUV露光技術研究成果報告会

DPP方式EUV光源の開発

NGL 2007

実用化に向けたDPPの開発
Development of Discharge Produced Plasma EUV Source

2007 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography

Progress on DPP source
development towards HVM

2007.5 LS-11(11th Int'l Symp. on the Science and Technology of Light Sources）

Study of HID lamp by a 3-D and time-dependent model:
determination of temporal distributions
of electrode temperatures

2007.5 LS-11(11th Int'l Symp. on the Science and Technology of Light Sources)

Current waveform optimization
of AC-operated short arc ultra high pressure mercury lamps
for projection applications

2007.5 LS-11(11th Int'l Symp. on the Science and Technology of Light Sources)

Electrode stabilized Xe filled Flash Lamp as a DUV
and VUV Point Source

ヨーロッパ太陽電池国際会議

FORMATION OF POLYCRYSTALLINE Si FILMS OVER 3 µm
IN THICKNESS ON QUARTZ SUBSTRATES
BY FLASH LAMP ANNEALING

2007年秋季　第68回困応用物理学会学術講演会

塩素ビームSiエッチングの
表面反応における紫外光の影響

2007.11　Fifth international symposium on control of semiconductor interfaces

Role of UV Irradiation during Si Etching Process in Chlorine Plasma

2008年春季 第55回応用物理学会学術講演会

完全水銀フリー蛍光ランプの開発

2008.6 ICOPS2008 (35th IEEE International Conference on Plasma Science)

MODELING OF A PROJECTOR LAMP OPERATED
BY A U-DRIVE PULSE POWER SOURCE

2008.6 25th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-25)

Techniques for Measuring Rate Constants for Acid
Generation from PAG (Photo Acid Generator)
during ArF Exposure

2008.6 25th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-25)

A Study of Photoresist Pattern Freezing for Double Imaging
using 172nm VUV Flood Exposure

ポルフィリン学会 2008年4月

光線力学療法における、
専用ランプの開発とその装置の開発

日本臨床化学会

マイクロ流体チップを用いた
微量血液分析システムの開発

「レーザー研究」日本レーザー学会

リソグラフィ用EUV光源
EUV Source for Lithography

「超精密」精密工学会 超精密加工専門委員会編

EUVL用ディスチャージ生成
プラズマ光源の開発

プラズマ核融合学会誌 Vo.81 12月号
講座 プラズマの光源応用～身近な明かりから次世代光源まで～

４.これからの光源
４.１ EUV 光源

「エレクトロニクス洗浄技術」技術情報協会

紫外線洗浄

日本美容皮膚科学会誌

5-アミノレブリン酸外用薬を用いた
光線力学的療法における健常皮膚への影響
一アミノレブリン酸の濃度と有害事象の発現の関連性について一

「月刊ディスプレイ」

水銀レス蛍光ランプを用いた
バックライトの展開一大画面LCDモニターー

月刊「光アライアンス」 日本工業出版社2007年7月

光線力学診断および治療における
放電ランプの応用

Visual Dermatology

皮膚科領域での光線力学治療における
光増感性物質と光源装置

⌈EUV光源の開発と応用⌋シーエムシー出版

放電プラズマEUV光源（DPP）

FPD International 2008プレセミナー

デジタル・サイネージに使用される
大型LCD用バックライト光源

究極の「光」、次世代半導体の実現へ

究極の「光」、次世代半導体の実現へ

大学研究室を訪ねて Campus Lab⑲

究極の新エネルギー、次世代半導体
未来のライフサイエンスの道を拓く