ライトエッジ Ｎｏ.30 ［特集号］ EUV光源

ライトエッジ Ｎｏ.30 ［特集号］ EUV光源

次世代半導体の実現に向けて、今、最も可能性が高く、大きな期待が寄せられている「EUV露光技術」にスポットをあて、その核となる「EUV光源」の技術論文を編集したEUV特集号です。

（2008年03月）

SPIE, 2005 International EUVL Symposium

Xe- and Sn-fueled Z-pinch EUV source
development aiming at HVM

SPIE, 2006 International EUVL Symposium

Development of Xe-and Sn-fueled high-power Z-pinch
EUV source aiming at HVM

SPIE, 2006 International EUVL Symposium

Development of high-power Sn-fueled
DPP EUV source for enabling HVM

SPIE, 2007 International EUVL Symposium

Development of Sn-fueled high-power DPP EUV source
for enabling HVM

SPIE, 2007 International EUVL Symposium

High-power DPP EUV source
development toward HVM

平成18年度 EUV露光技術研究成果報告会

DPP方式EUV光源の開発

NGL 2007

実用化に向けたDPPの開発
Development of Discharge Produced Plasma EUV Source

2007 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography

Progress on DPP source
development towards HVM

「レーザー研究」日本レーザー学会

リソグラフィ用EUV光源
EUV Source for Lithography

「超精密」精密工学会 超精密加工専門委員会編

EUVL用ディスチャージ生成
プラズマ光源の開発

プラズマ核融合学会誌 Vo.81 12月号
講座 プラズマの光源応用～身近な明かりから次世代光源まで～

４.これからの光源
４.１ EUV 光源

⌈EUV光源の開発と応用⌋シーエムシー出版

放電プラズマEUV光源（DPP）

究極の「光」、次世代半導体の実現へ

究極の「光」、次世代半導体の実現へ

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