光技術情報誌「ライトエッジ」No.30（2008年3月発行）
SPIE, 2007 International EUVL Symposium
（2007年10月）
High-power DPP EUV source
development toward HVM
Yusuke Teramoto, Zenzo Narihiro, Daiki Yamatani, Takuma Yokoyama, Kazunori Bessho,
Yuki Joshima, Takahiro Shirai, Shinsuke Mouri, Takahiro Inoue, Hiroshi Mizokoshi,
Gohta Niimi *, Tomonao Hosokai*, Hironobu Yabuta, Kohkan C. Paul, Tetsu Takemura,
Toshio Yokota, Kiyoyuki Kabuki, Koji Miyauchi, Kazuaki Hotta, and Hiroto Sato
Gotenba Branch, Hiratsuka Research and Development Center
Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (EUVA)
*Ushio Inc.
1-90 Komakado, Gotenba, Shizuoka 412-0038, Japan
Phone: +81-(0)550-87-3000, Fax: +81-(0)550-87-3200
This work is supported by New Energy and Industrial Technology Development Organization (NEDO).
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次世代半導体の実現に向けて、今、最も可能性が高く、大きな期待が寄せられている「EUV露光技術」にスポットをあて、その核となる「EUV光源」の技術論文を編集したEUV特集号です。
（2008年03月）