ウシオの高輝度EUV光源搭載機による各種研究・評価サービス受付を開始

ウシオ電機株式会社（本社：東京都　代表取締役社長：浜島　健爾、以下ウシオ）の高輝度EUV光源を搭載したオランダ応用科学研究機構（The Netherlands Organization for Applied Scientific Research： 以下TNO）のEUV照射・分析用ファシリティ「EBL2」が2017年3月27日に正式オープンし、EUV関連企業や機関などを対象に、光学部品やマスク・ペリクル・センサー等の各種研究・評価サービスの受付を開始しましたので、お知らせします。

TNOのEUV照射・分析用ファシリティ「EBL2」は、サンプルをハンドリングから光照射、評価まで一貫して真空環境でリアルタイム（in-situ）に計測できるのが特徴です。また、ウシオの高輝度・高出力EUV光源により、6インチマスクまで対応した大面積露光評価が可能で、評価期間の短縮にも貢献しています。

本件に関してTNOの戦略顧客担当役員であるWilbert Staring氏は「ウシオは、オリジナリティにあふれた設備であるEBL2の主要パートナーとして、開発・製造において極めて重要な役割を果たし多大な貢献をしたことは言うまでもありません」とコメントしています。

ウシオは今後もEUV露光プロセスの量産技術確立に向け、高精細マスク検査用光源技術をさらに進展させ、最先端の半導体製造プロセスの進化に貢献してまいります。

オランダ応用科学研究機構（所在地：オランダ、ハーグ）

独立したイノベーション組織であり、産業の競争力と社会福祉を継続的に向上させるイノベーションを創造するために、人々と知識を結びつけ、これがTNOで日々働く2,800名のモチベーションになっています。TNOは経済と社会的価値の結合的創造を信じ、目的のあるイノベーションこそがTNOが意味するところです。TNOは自らのためではなく、実務的アプリケーションのために知識を発展させています。TNOはパートナーと協働し、ステークホルダとともに確認された5つの変化についてフォーカスしています。「TNO International Center for Contamination Control」は産業界におけるパートナー各社が、多様な実験施設を活用しコンタミネーションコントロールの研究開発を行なうために設立されました。http://www.tno-pharma.com/

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