MEMS向け一括投影露光装置「UX4」を 欧州の研究開発機関CiSから受注

―11月に納入予定、欧州でのMEMS研究開発を加速―

ウシオ電機株式会社(本社:東京都、代表取締役社長 菅田 史朗、以下ウシオ)は、MEMSの研究開発・製造向けに最適化した一括投影露光装置「UX4 (ユーエックス・フォー)」を、ドイツの研究開発機関であるCiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik und Photovoltaik GmbH(以下CiS)から受注し、欧州の100%子会社USHIO EUROPE B.V.を通じ、11月に納入する予定となりましたのでお知らせします。

UX4は、マスクやワークにダメージを与えない完全非接触の一括投影露光方式を採用しており、段差のある基板や厚膜レジストなどに対応した露光装置です。MEMSやパワーデバイスなど、製造するデバイスに合わせてカスタマイズした装置をシリーズ展開しており、裏面アライメントや両面同時露光などの各種機能が搭載可能な他、一括全面露光が可能なウェハサイズはφ200mm、最小解像度はL/S=2μmを有しています。

【CiS Dr. Thomas Ortlepp, Director Research, Development and Technology 氏コメント】
「私たちはこれまでプロキシミティ露光装置を使用してきましたが、さらなる微細化や生産性向上のために、他の方式に転換する必要性を感じていました。この度採用が決定したウシオの一括投影露光装置は、我々の要求を十分に満たすものであり、MEMSや化合物半導体分野の生産性向上と、高精度化、高密度化に向けた研究がより加速するものと期待しています。」

【ウシオ露光BU長 板羽 正行 コメント】
「UX4は独自開発の投影レンズを搭載し、マスクとワークが非接触の全面一括露光が可能です。これにより、CiSの研究開発が加速し、また欧州のMEMS製造における生産性向上とコスト低減に貢献できるものと考えています。」

なおウシオは、2014年10月7日(火)~9日(木)に、フランスのグルノーブルで開催されるSEMICON Europa 2014(ブース番号235)において、「USHIO Full-Field Projection」をテーマに「UX4」をはじめとした自社の露光装置UX Seriesのパネル展示を行ないます。

一括投影露光装置「UX4」装置外観

補足資料

CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik und Photovoltaik GmbH
ドイツ アーフルトに拠点をおく、マイクロセンサー、マイクロシステムを中心とした研究開発を行う非営利団体。国・州政府からの援助により、最高峰の要素技術を開発し、新たな研究分野の開拓に貢献するとともに、中小規模ビジネスの開発業務をサポートしている。
http://www.cismst.org/en/profil/institut/handlungsfelder/

ウシオ電機株式会社(東証6925)
1964年設立。紫外から可視、赤外域にわたるランプやレーザ、LEDなどの各種光源および、それらを組み込んだ光学・映像装置を製造販売しています。半導体、フラットパネルディスプレイ、電子部品製造などのエレクトロニクス分野や、デジタルプロジェクタや照明などのビジュアルイメージング分野で高シェア製品を数多く有しており、近年は医療や環境などのライフサイエンス分野にも事業展開しています。
http://www.ushio.co.jp

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