投影露光装置「UX-4シリーズ」

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ウシオが長年培った光源・光学技術に独自の大面積投影レンズ技術を用いたプロジェクションアライナーです。8インチまでのウェハをマスクと非接触で一括露光することが可能です。広い焦点深度を用いた平らでないウェハに対する露光を可能にし、プロキシミティアライナーには無い高生産性、高歩留りを達成します。



【要素技術】

・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載

・高い均一度を誇る独自の照射光学系

・他に類を見ない大面積投影レンズ

マスクダメージフリー
高生産性
3次元露光
厚膜レジスト対応
プロキシミティアライナーのマスク転用可能
MEMS
水晶振動子
SAWフィルタ
RFデバイス
センサー
インジェットヘッド
ダイオード
IGBT
パワー半導体
サイリスタ
MOS-FET
LED
パワーアンプ
MMIC
BAWフィルタ
加速度センサ
インダクター
受動部品
太陽電池
など

スプレーコーター
従来のスピンコーターでは不可能とされた、基板(3D構造)の凹凸形状に沿ったレジスト塗布を可能にしました。
(豊田工業大学 佐々木教授、株式会社VICインターナショナル共同開発品)

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型式一覧

搭載光源