ウェハ向け一括投影露光装置UX-4シリーズの新製品「UX-45114SC」を受注開始
照射エリアはそのままに、さらなる解像力アップと重ね合わせ精度の向上を実現
ウシオ電機株式会社（本社：東京都、代表取締役社長 朝日 崇文、以下 ウシオ）は、ウェハ向け一括投影露光装置UX-4シリーズの新製品として、φ6/φ8インチに対応し、解像力L/S=2.8μmと重ね合わせ精度向上を実現させた「UX-45114SC」を、2026年Q1より受注開始しますのでお知らせいたします。
「UX-45114SC」は、主にパワー半導体、MEMSセンサ、通信・光電融合関連（光半導体）のデバイスなどの生産効率を上げるための露光装置として長年にわたり多くの導入実績を持つUX-4シリーズの最新機種です。
近年、これらのデバイスの高性能化の要求に伴い、微細化が進んでいます。また、チップの生産性向上のためウェハの大口径化を狙い、φ6/φ8インチ化も進んでいる状況です。それらのニーズにお応えするため、ウシオは創業以来培ってきた独自の光学設計技術をベースに、従来とは違った特殊光学顕微鏡を採用することにより、φ6/φ8インチに対応し、解像力L/S=2.8μmに加え、重ね合わせ精度を改善したUX-45114SCの開発に成功しました。
これにより、IoTや5G、モビリティーの進化に不可欠な次世代の電子デバイスのウェハ大型化や高精度化したレイヤーに対して、高スループットを維持したまま解像力と重ね合わせ精度を向上することで、従来と同等以上の生産性かつ高い歩留まりが実現できます。
ウシオは今後も、ウェハ向け一括投影露光装置のリーディングカンパニーとして、便利・快適な社会の実現に「光」で貢献していきます。
なお、本製品は12月17日～19日まで東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan 2025（ブースNo.E4522）」でパネル展示をします。
■主な特長
・一括投影露光 ： マスクダメージレス 高生産性120WPH
・深い焦点深度 ： 3D表面形状への露光、厚膜レジスト露光
・自動化対応 ： インライン、オンライン、OHT・AGV対応
・解像力 L/S = 2.8μm
・重ね合わせ精度を改善
・水銀レス、LED光源対応
■外観写真
■UX-4シリーズ製品ラインアップ表
| 仕様/型式 | UX-44101SC | UX-4477SC | UX-45114SC （暫定仕様） |
| ウェハサイズ | 4inch | 6inch/8inch | 6inch/8inch |
| 露光エリア | φ100mm | φ200mm | φ200mm |
| 解像力 | 2μm | 4μm | 2.8μm※1 |
| 焦点深度 | ±10μm | ±30μm | ±10μm |
| 重ね合わせ (表面) | ±1.0μm | ±1.0μm | ±0.8μm |
| 重ね合わせ (裏面) | ±1.5μm | ±1.5μm | ±1.0μm |
| 波長 | i 線 | i 線 | i 線 |
| 対応ウェハ材質 | Si, GaAs, GaN, GaP, InP, SiC,Glass, Sapphire, Ceramics, LN, LT, Thin & Thick | ||
| 自動化オプション | EFEM, マスク自動搬送, SECS/GEM オンライン, AGV, コータ/デベロッパとのインライン化 | ||
※1 フィルタ選択により解像力&DOFの組み合わせを、「解像力2.8μm、DOF±10μm」もしくは「解像力3μm、DOF±20μm」で選択可能