プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」 お気に入り 印刷 カタログ各種資料ダウンロード 露光 MEMS・電子部品半導体液晶・ディスプレイプリント基板・PKG ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。【要素技術】・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載・高い均一度を誇る独自の照射光学系 特長 主な用途 事例紹介 製品ラインナップ よくあるご質問 その他 高解像力 最高解像度ラインアンドスペース=1um(真空ハードコンタクト)を達成。プロキシミティー露光においても20umGap時ラインアンドスペース3umの高解像力を実現しました。また、高いステージ平坦性・Gap安定性で線幅安定性に優れます。 材料に応じ、各露光モードにおいて最適な解像度を実現するよう光学系をご提案します。 高精度な重ね合せを実現 重ね合せ精度:表面アライメント時±1um、裏面アライメント時、±1.5umを実現。各種基板やアライメントマークに対し、最適なアライメント照明、画像処理ソフト技術で高精度な重ね合せ精度を実現します。 MEMS 水晶振動子 SAWフィルタ RFデバイス センサー インジェットヘッド ダイオード IGBT パワー半導体 サイリスタ MOS-FET LED パワーアンプ MMIC BAWフィルタ 加速度センサ インダクター 受動部品 太陽電池 など 型式 UX-3300SC コンタクト方式 バキュームコンタクト ハードコンタクト プロキシミティ 解像力 1μm L/S 2μm L/S 3μm L/S 露光方式 片面露光 ウェハサイズ ~φ200m 露光波長 i、ih、ihg 線 重ね合わせ精度 ±1μm(表面) ±1.5μm(裏面) ■ウェーハの反りにも対応 ■低コントラストアライメントマーク ■MEMS向けの豊富なオプション 高焦点深度 3次元(段差、球面)露光可能(UX-4 MEMS) 両面同時露光 高精度表裏位置合わせ 高精度アライメント ウェーハのノッチ、オリフラのアライメント機能 複数のハンドリングオプション 非接触、貫通、反りウェーハや異種材料にも対応 【輸出に関するご注意】 本製品(又は技術)は、外国為替及び外国貿易法に基づくリスト規制の該当貨物(又は技術)になる場合がありますので、輸出(又は非居住者への技術の提供あるいは 外国において技術の提供をする目的での取引)を行なう場合には、経済産業大臣の 輸出許可(又は役務取引許可)が必要となる場合があります。必ず事前に弊社へご確認下さい。 型式一覧 搭載光源 超高圧UVランプ(500W~35kW) 関連論文 「露光装置に求められる課題と 新露光装置の開発コンセプト」 FPC用露光装置 UX-3100SR/UFX-2458B 関連イベント 関連ニュース 関連製品 プリンタブル パターニング用光源ユニット 「VUVアライナー」 紫外線照度計「UIT-201」 紫外線積算光量計「UIT-250」 関連用語 アライナ(アライナー)露光装置