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紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード」 |
紫外線照射装置として、LSI製造ラインで採用されている紫外線ホトレジスト硬化です。
超高圧UVランプ、エキシマランプ を搭載し、ドライエッチング時の耐プラズマ性の向上、イオン注入時のレジスト脱ガスおよび焼きしめ、電荷の消去、ストレスイレース、Low-kキュアなど、さまざまな用途で活用されています。 |
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チャージイレース装置 |
強力な深紫外線照射により、EPROM、フラッシュメモリなどの電荷を除去。各種プラズマプロセスで問題となるチャージングを消去します。 |
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紫外線瞬間乾燥装置「ユニキュアシステム」 |
ハイパワー、コンパクト、低温処理を実現するUV硬化・乾燥装置です。目的に応じて、ランプやUV強度、照射幅などのコンポーネントが可能です。
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スポットUV照射装置 「スポットキュアシリーズ」 |
約30年間にわたり培ってきた光システム技術を活かした「スポットキュア シリーズ」は、使いやすさを追求し、さらに環境にも配慮。ラインやワークの条件に合わせ、レンズやユニットなどもオプションも豊富に取り揃えています。
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『塗布と塗膜』2015年11月号 PDF（2.31MB） |
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