光CVD photo chemical vapor deposition ひかりしーぶぃでぃ 解説 光CVDとは、光放射で材料ガスを光分解させ、発生したラジカルを基板上で再結合させて、薄膜を形成させる技術のこと。 光源(放射源)には、エキシマレーザ、エキシマランプ、低圧水銀ランプ、シンクロトロン放射などが使われる。 関連用語 エキシマレーザ(エキシマレーザー)光源シンクロトロン放射光分解ランプ 関連製品 関連URL 付属資料 用語50音一覧 あ行 か行 さ行 た行 な行 は行 ま行 や行 ら行 わ行