製品一覧
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| 製品名 | 製品説明 | 主な用途・分野 | 波長 | ||
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光配向装置 | ウシオの光配向技術は、高い偏光・光学・機械設計技術を駆使しており、お客様に最適な装置を提案することが可能です。 254nm、313nm、365nmを始めとした、様々な材料感度に最適な光学部品を有しております。 また、ハイパワー入力による高露光量、高均一度照射も特徴です。 小型から大型まで、お客様のワークに合った装置をご提案します。 |
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紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード」 | 紫外線照射装置として、LSI製造ラインで採用されている紫外線ホトレジスト硬化です。 超高圧UVランプ、エキシマランプ を搭載し、ドライエッチング時の耐プラズマ性の向上、イオン注入時のレジスト脱ガスおよび焼きしめ、電荷の消去、ストレスイレース、Low-kキュアなど、さまざまな用途で活用されています。 本製品は2023年9月末日をもって新規装置の受注を終了させていただきます。 2035年9月末までは、ランプユニット、ホットプレート等の主要保守・消耗部品につきましては、提供に問題ない体制を準備する予定です。 詳細はこちらをご覧ください |
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チャージイレース装置 | 強力な深紫外線照射により、EPROM、フラッシュメモリなどの電荷を除去。各種プラズマプロセスで問題となるチャージングを消去します。 本製品は2023年9月末日をもって新規装置の受注を終了させていただきます。 2035年9月末までは、ランプユニット、ホットプレート等の主要保守・消耗部品につきましては、提供に問題ない体制を準備する予定です。 詳細はこちらをご覧ください |
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露光装置用光源ユニット 「マルチライト」 | 均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。
【この製品は、ウシオライティングの製品です】 |
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Deep UVランプ | キセノンランプをベースに水銀などの金属蒸気を封入した高輝度・点光源のランプです。 230nm～320nm付近の中紫外域の放射に特徴があり、短波長を利用した光化学反応、UVキュアリング、リソグラフィなどで活用されています。 |
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