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光微細加工

USHIO

干渉露光装置の紹介







 

干渉露光を支えるウシオの技術

光学技術

光の干渉によって生じた光の強弱を露光のパターニングを行っています。波面を高精度に制御することで高精度な露光を実現しています。

光学技術

メカ技術

nmオーダーの停止安定性や位置決め精度を制御することで高精度な露光を実現しています。

メカ技術

干渉露光技術の特徴

スラントパターン技術

光学系を傾けることで、斜めの構造を作ることができます。
自由で安定したシステムにより、様々な評価が可能です。

サブミクロン露光技術

ドットパターン技術

ウェーハの回転角度を変えながら露光を精密に行うことで、
ドットパターンを作成することができます。
ウェーハの回転角度を変えることで、
四角形や六角形のアレイを作ることができます。

サブミクロン露光技術

サブミクロン露光技術

二光束干渉露光を用いることによって、波長オーダーのサブミクロンパターニングが可能です。
150nmのピッチまで対応可能です。

サブミクロン露光技術

シームレス露光技術

ステップ&リピート露光の露光境界を完全に消すことができます。
目視でもシームレスなパターニングがφ8inch全面に露光できます。

シームレス露光技術

曲面露光技術

焦点深度に換算するとmmオーダーでパターニングが可能です。
平面度・平坦度の制約を超えた加工を実現します。

曲面露光技術