干渉露光技術 光の干渉によって生じた光の強弱を用いてサブミクロンかつシームレスに周期パターンを露光する技術
干渉露光技術 光の干渉によって生じた光の強弱を用いてサブミクロンかつシームレスに周期パターンを露光する技術
光の干渉によって生じた光の強弱を露光のパターニングを行っています。波面を高精度に制御することで高精度な露光を実現しています。
nmオーダーの停止安定性や位置決め精度を制御することで高精度な露光を実現しています。
光学系を傾けることで、斜めの構造を作ることができます。
自由で安定したシステムにより、様々な評価が可能です。
ウェーハの回転角度を変えながら露光を精密に行うことで、
ドットパターンを作成することができます。
ウェーハの回転角度を変えることで、
四角形や六角形のアレイを作ることができます。
二光束干渉露光を用いることによって、波長オーダーのサブミクロンパターニングが可能です。
150nmのピッチまで対応可能です。
ステップ&リピート露光の露光境界を完全に消すことができます。
目視でもシームレスなパターニングがφ8inch全面に露光できます。
焦点深度に換算するとmmオーダーでパターニングが可能です。
平面度・平坦度の制約を超えた加工を実現します。