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半導体の検索結果

製品名 製品説明 主な用途・分野 波長
エキシマランプ/エキシマ光照射ユニット エキシマランプ/エキシマ光照射ユニット

エキシマVUV光は希ガスや希ガスハライド化合物のランプから生みだされる非常にエネルギーの高い光です。

希ガスや希ガスハライド化合物のガスが封じられたランプに外部から高いエネルギー電子を与えると放電プラズマ(誘電体バリア放電)が多数発生します。このプラズマは高いエネルギー電子を包含しており、かつ瞬時に消滅するという特徴を持っています。このプラズマ放電により、放電ガス(希ガス)の原子が励起され、瞬間的にエキシマ状態(Xe)となります(エネルギーの高い軌道原子に励起され、エキシマ励起分子になります)。このエキシマ状態から元の状態(基底状態)に戻るとき、そのエキシマ特有のスペクトルを発光します。この光をエキシマVUV光と呼んでいます。

表面処理用エキシマ照射装置のご紹介

■取扱説明書や仕様書はこちら(会員登録が必要です)

可視化用シートビームレーザー光源 赤色レーザーダイオードの光を直接用いた新発想の流体可視化用ハイパワーシートビームレーザー光源です。 高速度カメラとの組合せで、流速の空間分布を得ることができます※1。 レーザーダイオードの光を直接使うので、従来使用されているDPSSレーザー※2に比べ、ハイパワーながら低価格、低消費電力を実現しました。 自動車、航空機はもとより、建設、空調機器、半導体製造装置、医療機器等においても、空間的な流れの理解・把握はエンジニアリング上欠かせないものとなっています。 ※1 解析方法により、 PIV (Particle Image Velocimetry), PTV (Particle Traking Velocimetry) と呼ばれる流体解析に広く使われる手法です。 ※2 Diode Pumped Solid State。波長変換による可視光域レーザーです。
エキシマ点灯電源モジュール バリア放電ランプ用の電源モジュールです。正弦波ではなく独自のパルス点灯方式を採用しているため高効率を実現しております。小型で信頼性の高いトランスが安定した高電圧を実現します。 技術紹介ページへ 本技術にご興味がある方はこちらまでお問合せください お問い合わせフォームへ
LEDモジュール用点灯装置 本製品は、LD・LED用の点灯装置で、制御システムとLEDドライバーを統合したシステム製品です。LD・LEDと接続することで点灯の操作を一括で制御できます。 技術紹介ページへ 本技術にご興味がある方はこちらまでお問合せください お問い合わせフォームへ
単一出力LEDドライバー UV-キュア(印刷、半導体 他)用を主として開発された単一出力LEDドライバーです。 技術紹介ページへ 本技術にご興味がある方はこちらまでお問合せください お問い合わせフォームへ
多出力LEDドライバー 合計15chの出力を持ち、それらのchを最大3つのグループに任意に割り当て、グループごとに点灯や調光等のコントロールを行うことが出来る多出力LEDドライバーです。例えば、キュアや印刷用インク硬化の用途においてghi線それぞれのUV-LEDを個別に制御し、ベストミックスな条件で点灯する事が可能です。 技術紹介ページへ 本技術にご興味がある方はこちらまでお問合せください お問い合わせフォームへ
ロングアークフラッシュランプ用点灯電源 短期間、光電流出力が特徴となるフラッシュランプの超高電圧コンデンサー充電用の電源です。フラッシュランプアニール(FLA)装置に搭載する充電器用に最適です。 技術紹介ページへ 本技術にご興味がある方はこちらまでお問合せください お問い合わせフォームへ
短パルス放電用電源 短時間の光出力を特徴とする超高電圧コンデンサー充電用の電源です。 技術紹介ページへ 本技術にご興味がある方はこちらまでお問合せください お問い合わせフォームへ
電源修理サービス 各種電源の修理を承っております。中国、韓国、台湾に修理業務体制を整えており、電源の故障等のトラブルが発生した際、日本に送り返すことなく現地で解決することが可能です。保守修理の際にはお気軽にご相談ください。 技術紹介ページへ 本技術にご興味がある方はこちらまでお問合せください お問い合わせフォームへ
LED方式平行光UV照射ユニット UV-LED  Multi 「LED方式多目的平行光ユニット」は、ウシオ独自のLED光学技術を用いて作られた、 i,h,g線それぞれを点灯・調光制御可能な平行光光源です。様々なアプリケーションにて、 LED光を用いた、新たなプロセス実現の研究・開発にて、大いに貢献します。
実験・評価用インバータ 幅広い電力、サイズのエキシマ光172nm / 222nmランプに適応したインバータをラインアップしました。 出力電力、周波数などが変更できる拡張性を重視した設計となっており、実験・評価用として最適です。 お客様の早期の実験・検討に貢献できるようにデリバリー重視の試作生産体制を整えています。 技術紹介ページへ 本技術にご興味がある方はこちらまでお問合せください お問い合わせフォームへ
test オールインワン オンサイト卓上検査装置 ハイスループットでありながら、省スペースかつシンプルで使いやすい操作性を実現した日本電子製卓上SEM(JCM-7000)です。光学カラー画像からSEM観察像へのシームレス(継ぎ目の無い)操作が可能なだけでなく、SEM観察しながらリアルタイムで元素分析が可能です。 光学顕微鏡では困難な「組成の異なる異物の検出」、「透明な物質の表面観察」、「元素分析」を製造現場で実現します。
透過型回折格子 回折格子は、多波長の光が重ね合わされた光(白色光源)からの放射を波長ごとに分光する波長分散用光学素子です。 ウシオでは、これまで培ってきた光源・光学・露光技術を活かし、微細加工技術を応用した光学素子の開発に取り組んでいます。 8インチの合成石英ウエ―ハ表面にフォトリソプロセスにより微細構造を形成し、表面レリーフ型の透過型の回折格子を製作いたします。 なお、シミュレーターによる光学設計から、マイクロレンズアレイの加工、納品に至るまでワンストップでご提供可能です。
ウシオの光加熱(サーマルプロセス)ソリューション ウシオのサーマルプロセス向け光加熱製品(ハロゲンランプヒータ、フラッシュランプ、LEDユニット)および関連技術をご紹介しています。
ウシオのレーザーモジュール レーザーに様々な機能を付加したレーザーモジュール製品をラインナップしています。 またスタンダード製品をベースにしたカスタムにより最適なソリューションを提供いたします。
分割投影露光装置「UX-5シリーズ」「UX-7シリーズ」 分割投影露光装置「UX-5シリーズ」「UX-7シリーズ」

ウシオでは、サーバーやPC、スマートフォン、タブレット端末等の携帯機器に採用される最先端パッケージングアプリケーションに特化したステッパーを提供してきました。ウシオが長年培った光源・光学技術に独自の大面積投影レンズ技術を用い、パネルサイズに対応したステージを用いたパッケージ基板向けステッパーです。最先端パッケージ基板に求められる高い解像性や重ね合せ精度を実現しつつ、高生産性を達成しています。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系 ・他に類を見ない大面積投影レンズ

投影露光装置「UX-4シリーズ」 投影露光装置「UX-4シリーズ」

ウシオが長年培った光源・光学技術に独自の大面積投影レンズ技術を用いたプロジェクションアライナーです。8インチまでのウェハをマスクと非接触で一括露光することが可能です。広い焦点深度を用いた平らでないウェハに対する露光を可能にし、プロキシミティアライナーには無い高生産性、高歩留りを達成します。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系
・他に類を見ない大面積投影レンズ

プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」 プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」

ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系

マスクアライナー「UX-1シリーズ」 マスクアライナー「UX-1シリーズ」

ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系

ロールtoロール投影露光装置「UFXシリーズ」 ロールtoロール投影露光装置「UFXシリーズ」

累積800台以上の市場実績がある、ウシオのフレキシブル基板用プロキシミティ/投影露光装置のラインナップ。専用に開発した高出力ランプ、定評のある光学系技術を駆使した投影レンズにより、高効率で高解像度な露光を実現します。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系
・他に類を見ない大面積投影レンズ

EUV光源 (次世代半導体用マスク検査および各種開発用途向け) EUV光源 (次世代半導体用マスク検査および各種開発用途向け) 半導体業界では、より高性能でコンパクト、更に低消費電力の半導体の実現に向け、超微細化露光技術の開発が進められています。その中で有力視されているのが波長13.5nmのEUV(Extreme Ultraviolet)光による「EUV露光」です。 ウシオは、これまで培ってきたEUVの研究・開発実績を活かし、EUV露光用のマスク検査装置向けを始め、各種開発用途向けのEUV Xe DPP およびEUV Sn LDP光源の開発を行なっています。
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