フォトリソグラフィ（フォトリソグラフィー）とは、感光剤（フォトレジスト）を塗布したシリコン基板などに、原板となるパターン（フォトマスク、レチクル）を紫外線などの光放射で照射し、露光させ、回路などのパターンを生成する技術のこと。リソグラフィと呼ぶこともある。
※フォトリソグラフィ用の紫外線光源は、半導体の微細化の進行とともに短波長化が進んでいる。超高圧水銀ランプはｇ 線(436nm)からｉ 線(365nm)へ、そしてエキシマレーザもKrF(248nm)からArF(193nm）へと進み、さらに次世代の超微細露光光源としてEUV（極端紫外光、13.5nm)の開発が進行している。
