USHIO

光技術情報誌「ライトエッジ」No.6(1996年5月発行)

1996(平成8年)春季 第43回 応用物理学会 関係連合講演会 講演予稿集No.2

27p-ZV-6
エキシマランプを用いた有機光学材料のフォトエッチング
Photo-Etching of Organic Optical Materials using an Excimer Lamp

[宮崎大・工、ウシオ電機(株)*、阪大・工**、大工大***]
竹添法隆、横谷篤至、黒澤宏、佐々木亘、松野博光*、五十嵐龍志*、佐々木孝友**、吉田国雄***
[Miyazaki Univ., USHIO INC*, Osaka Univ.**, Osaka Univ. of Technology***]
N. Takezoe, A. Yokotani, K. Kurosawa, W. Sasaki, H. Matsuno*, T. Igarashi*, T. Sasaki**, K. Yoshida***

誘電体バリア放電を基礎としたエキシマランプは、高出力・高効率・大面積照射が可能な新しい真空紫外光源であり、その特性は従来の主なランプの特性を上回るものである。我々は、このランプの高いフォトンエネルギーを利用した、有機化合物のフォトエッチングについて研究を行っている。1)今回我々は、有機高分子材料(PMMA, PI)に加え、非線形光学効果を有する有機低分子単結晶材料の微細加工を行ったので、その結果を報告する。

様々な圧力および雰囲気下においてキセノンエキシマランプ(ウシオ電機製 : 波長172nm、照度10mW/cm2)で照射したサンプルを、光学顕微鏡、FT-IR、SEMなどで評価を行った。サンプル表面にスリット状の金属マスクを置いて、40分間照射を行ったPMMA表面の顕微鏡写真をFig.1に示す。エッチング速度は、雰囲気ガス種、圧力に影響を受けるが、最大で7.5nm/minであった。他の材料についても同様の測定を行っており、それらの反応メカニズムなどと合わせて、詳細は当日報告する予定である。

Fig.1 PMMAのエッチング表面 50倍

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