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光微細加工

USHIO

MEMSミラー加工事例

一体型波長板による偏光変換

MEMSミラー(Micro Electrical Mechanical System mirror)の表面にメタサーフェスを用いた波長板を実装できます。
このミラーは、反射の際に通常であれば保存される入射光の偏光を回転させて反射します。
λ/2板(HWP: Half Wave Plate)を実装すれば入射TE偏光を反射TM偏光として出力できる小型の反射型位相差板になります。

memsミラー上に形成された波長板によるSP偏光変換_設計I-PEX(株)

波長板の光学特性

反射率

金属アルミニウムベースの金属グリッド構造を最適化しました。
450 nm~650 nmの可視域で非偏光の反射率は約70%です。

memsミラー_波長板反射率

位相差

450 nm~650 nmの可視域における位相差は約180°であり、1/2波長板として機能します。

memsミラー_半波長板位相差

主な仕様

項目 詳細
光学特性 波長域 450 nm~650 nm 可視域
位相差 180° ±20°
反射率 TE:62% ±5%, TM:75%±5% (450 nm~650 nm)
形状・寸法 ウエハサイズ 8 inch (JEITA)
厚さ 0.72 mm
MEMSミラー ミラーサイズ 長径:1.0 mm, 短径:0.8 mm
波長板有効径 長径:0.9 mm, 短径:0.7 mm
素子サイズ 5.0 x 6.0 mm