製品一覧
“紫外線“の検索結果
| 製品名 | 製品説明 | 主な用途・分野 | 波長 | ||
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エキシマランプ/エキシマ光照射ユニット | エキシマVUV光は希ガスや希ガスハライド化合物のランプから生みだされる非常にエネルギーの高い光です。 希ガスや希ガスハライド化合物のガスが封じられたランプに外部から高いエネルギー電子を与えると放電プラズマ（誘電体バリア放電）が多数発生します。このプラズマは高いエネルギー電子を包含しており、かつ瞬時に消滅するという特徴を持っています。このプラズマ放電により、放電ガス（希ガス）の原子が励起され、瞬間的にエキシマ状態（Xe）となります（エネルギーの高い軌道原子に励起され、エキシマ励起分子になります）。このエキシマ状態から元の状態（基底状態）に戻るとき、そのエキシマ特有のスペクトルを発光します。この光をエキシマVUV光と呼んでいます。 表面処理用エキシマ照射装置のご紹介 |
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LED方式平行光UV照射ユニット UV-LED Multi | 「LED方式多目的平行光ユニット」は、ウシオ独自のLED光学技術を用いて作られた、 i,h,g線それぞれを点灯・調光制御可能な平行光光源です。様々なアプリケーションにて、 LED光を用いた、新たなプロセス実現の研究・開発にて、大いに貢献します。 |
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各種製造プロセス向けUV-LED照射装置 | ウシオのUV-LEDは高照度、高積算光量、長寿命、低電力、瞬時点灯/瞬時消灯を実現。 弊社はこれまで培った光学技術や冷却技術を用いた自由度のある設計が特徴です。 電源や制御部を含めたトータル提案を行い、紫外線に関わるあらゆる問題を解決するシステムを提供させて頂きます。 |
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ウシオのレーザーモジュール | レーザーに様々な機能を付加したレーザーモジュール製品をラインナップしています。 またスタンダード製品をベースにしたカスタムにより最適なソリューションを提供いたします。 |
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EUV光源 (次世代半導体用マスク検査および各種開発用途向け) | 半導体業界では、より高性能でコンパクト、更に低消費電力の半導体の実現に向け、超微細化露光技術の開発が進められています。その中で有力視されているのが波長13.5nmのEUV(Extreme Ultraviolet)光による「EUV露光」です。 ウシオは、これまで培ってきたEUVの研究・開発実績を活かし、EUV露光用のマスク検査装置向けを始め、各種開発用途向けのEUV Xe DPP およびEUV Sn LDP光源の開発を行なっています。 |
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検査用光源ユニット「arctruth （旧オプティカルモデュレックス）」 | “見たいものが正確に見える”ことが必須の検査プロセスにおいて、特に「検査のプロフェッショナルユース」をコンセプトとした光源ユニットです。 【この製品は、アドテックエンジニアリングの製品です】 |
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多目的均一照射ユニット「Deep UV マルチライト」 | Deep UVマルチライトは均一・平行光源として豊富な実績のあるマルチライトシリーズの基本構成はそのままに波長230nm～330nmのDeep UV領域に最適化した光源ユニットです。 リソグラフィー用途はもちろん、表面改質光源、各種光化学反応評価光源としても応用頂けます。 |
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露光装置用光源ユニット 「マルチライト」 | 均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。
【この製品は、ウシオライティングの製品です】 |
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印刷用UV-LED「UniJetシリーズ」 | ウシオのUniJetシリーズは、デジタルプリンティング市場の厳しい要求を満たすために設計・開発されたUV-LEDモジュールです。 UniJetシリーズは、従来の標準的なUVランプの代替として求められていた理想的な光源です。 水冷、空冷、調光の様々な機能によって、お客様が求める仕様やニーズにお応えします。 |
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