最近開発されたエキシマランプは低圧水銀ランプよりも、短波長、高照度を達成でき、エキシマレーザーよりも大面積処理に適した新しい真空紫外光源であり、各種表面プロセスへの応用が期待されている。本研究ではヘッドオン型キセノンエキシマランプ(ウシオ電機製：波長172nm)を用い、PMMAやポリイミドなど各種ポリマーのフォトエッチングを試みた。照度10mW/cm²で、雰囲気ガスの種類、圧力を変化させてエッチングを行い、測定したポリイミド樹脂のエッチング深さの時間変化を図1に示す。エッチング速度は最大20nm/minで、ガス圧を調整することにより変化させることができる。他の樹脂についても同様の測定を行っており、SEMによる表面形状観察、エキシマレーザーによるエッチングとの比較とあわせて詳細は、当日報告する。