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Fabrication process of flexibly patterned grating by interference lithography system with automated beam alignment module

開発中の新型二光束干渉露光装置について、SPIE Advanced Lithography and Patterning 2023で報告した。本装置は二本の旋回アームを有し、形成するグレーティングのスラント角度（±25度）とピッチ（150 nm～500 nm）を自動制御可能である。さらに、266 nmと355 nmの二つの光源を備えており、広範囲のレジスト材料に対応している。整定精度1 nmのステージを搭載しており、重ね合わせスキャン露光が可能であるため、シームレスなグレーティングを作成できる。本装置は液晶型光スイッチやAR、VR用のホログラフィックデバイスなど幅広いデバイス製作への応用が可能であり、広い聴衆の注目を集めた。 



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