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各種製造プロセス向けUV-LED照射装置 |
ウシオのUV-LEDは高照度、高積算光量、長寿命、低電力、瞬時点灯/瞬時消灯を実現。
弊社はこれまで培った光学技術や冷却技術を用いた自由度のある設計が特徴です。
電源や制御部を含めたトータル提案を行い、紫外線に関わるあらゆる問題を解決するシステムを提供させて頂きます。 |
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LED素子／パッケージ |
ウシオのチップ技術（設計・エピタキシャル成長・デバイスプロセス）とパッケージ技術（工学設計・熱設計）を最大限に活用したLED素子／パッケージです。
お客様の新製品や新プロジェクトの開発の初期段階から協業します。カスタム対応も可能です。 |
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紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード」 |
紫外線照射装置として、LSI製造ラインで採用されている紫外線ホトレジスト硬化です。
超高圧UVランプ、エキシマランプ を搭載し、ドライエッチング時の耐プラズマ性の向上、イオン注入時のレジスト脱ガスおよび焼きしめ、電荷の消去、ストレスイレース、Low-kキュアなど、さまざまな用途で活用されています。 |
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チャージイレース装置 |
強力な深紫外線照射により、EPROM、フラッシュメモリなどの電荷を除去。各種プラズマプロセスで問題となるチャージングを消去します。 |
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紫外線瞬間乾燥装置「ユニキュアシステム」 |
ハイパワー、コンパクト、低温処理を実現するUV硬化・乾燥装置です。目的に応じて、ランプやUV強度、照射幅などのコンポーネントが可能です。
取扱説明書はこちら
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スポットUV照射装置 「スポットキュアシリーズ」 |
約30年間にわたり培ってきた光システム技術を活かした「スポットキュア シリーズ」は、使いやすさを追求し、さらに環境にも配慮。ラインやワークの条件に合わせ、レンズやユニットなどもオプションも豊富に取り揃えています。
取扱説明書やトラブルシューティング、外観図CADデータはこちら
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『塗布と塗膜』2015年11月号 PDF（2.31MB） |
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超高圧UVランプ（～500W) |
ウシオの超高圧UVランプは、紫外線波長の中でも、特に3線（436nm・405nm・365nm)を有効に活用できるように開発されており、長寿命で安定した放射照度を持つ高輝度光源です。
アークサイズが極めて点光源に近いため、光学系での光の集中・拡散が容易で、均一な照度分布が得られます。 |
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Deep UVランプ |
キセノンランプをベースに水銀などの金属蒸気を封入した高輝度・点光源のランプです。
230nm～320nm付近の遠紫外域の放射に特徴があり、短波長を利用した光化学反応、UVキュアリング、リソグラフィなどで活用されています。 |
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UV-LED 均一面照射光源「UniField」 |
・複数波長から選択可能な、大面積、高照度で均一性の高いUV-LED照射ユニット。
・ウシオ独自のレンズを搭載することで、照射距離が伸びることによる照度低下を抑えることに成功。
厚みの異なる様々なワークへも微調整なしに照射が可能です。
・□100、150、200を標準サイズとしてラインナップ
・複数波長混合タイプも設計可能です。 |
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印刷用UV-LED「UniJetシリーズ」 |
ウシオのUniJetシリーズは、紫外線硬化や印刷に関わる市場の厳しい要求を満たすために最適に設計・開発されたUV-LEDモジュールです。
UniJetシリーズは従来の標準的なUVランプの代替として求められていた理想的な光源であり、このモジュールが併せ持つ水冷、空冷、調光の様々な機能によって、それぞれのお客様が求める仕様やニーズを確実に実現することができます。
『ラベル新聞』2021年3月15日号 PDF（1.24MB） 『ラベル新聞』2020年4月15日号 PDF（1MB） 『ラベル新聞』2019年9月15日号 PDF（4MB）
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