 |
各種製造プロセス向けUV-LED照射装置 |
ウシオのUV-LEDは高照度、高積算光量、長寿命、低電力、瞬時点灯/瞬時消灯を実現。
弊社はこれまで培った光学技術や冷却技術を用いた自由度のある設計が特徴です。
電源や制御部を含めたトータル提案を行い、紫外線に関わるあらゆる問題を解決するシステムを提供させて頂きます。 |
|
|
|
 |
LED素子／パッケージ |
ウシオのチップ技術（設計・エピタキシャル成長・デバイスプロセス）とパッケージ技術（工学設計・熱設計）を最大限に活用したLED素子／パッケージです。
お客様の新製品や新プロジェクトの開発の初期段階から協業します。カスタム対応も可能です。 |
|
|
|
 |
紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード」 |
紫外線照射装置として、LSI製造ラインで採用されている紫外線ホトレジスト硬化です。
超高圧UVランプ、エキシマランプ を搭載し、ドライエッチング時の耐プラズマ性の向上、イオン注入時のレジスト脱ガスおよび焼きしめ、電荷の消去、ストレスイレース、Low-kキュアなど、さまざまな用途で活用されています。
本製品は2023年9月末日をもって新規装置の受注を終了させていただきます。
2035年9月末までは、ランプユニット、ホットプレート等の主要保守・消耗部品につきましては、提供に問題ない体制を準備する予定です。
詳細はこちらをご覧ください
|
|
|
|
 |
チャージイレース装置 |
強力な深紫外線照射により、EPROM、フラッシュメモリなどの電荷を除去。各種プラズマプロセスで問題となるチャージングを消去します。
本製品は2023年9月末日をもって新規装置の受注を終了させていただきます。
2035年9月末までは、ランプユニット、ホットプレート等の主要保守・消耗部品につきましては、提供に問題ない体制を準備する予定です。
詳細はこちらをご覧ください |
|
|
|
 |
超高圧UVランプ（～500W) |
ウシオの超高圧UVランプは、紫外線波長の中でも、特に3線（436nm・405nm・365nm)を有効に活用できるように開発されており、長寿命で安定した放射照度を持つ高輝度光源です。
アークサイズが極めて点光源に近いため、光学系での光の集中・拡散が容易で、均一な照度分布が得られます。 |
|
|
|
 |
Deep UVランプ |
キセノンランプをベースに水銀などの金属蒸気を封入した高輝度・点光源のランプです。
230nm～320nm付近の中紫外域の放射に特徴があり、短波長を利用した光化学反応、UVキュアリング、リソグラフィなどで活用されています。 |
|
|
|
