製品一覧
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| 製品名 | 製品説明 | 主な用途・分野 | 波長 | ||
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投影露光装置「UX-4シリーズ」 | ウシオが長年培った光源・光学技術に独自の大面積投影レンズ技術を用いたプロジェクションアライナーです。8インチまでのウェハをマスクと非接触で一括露光することが可能です。広い焦点深度を用いた平らでないウェハに対する露光を可能にし、プロキシミティアライナーには無い高生産性、高歩留りを達成します。
【要素技術】 |
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プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」 | 本製品は生産終了となりました。
プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」生産終了のご案内(396KB）
代替品はこちら→オート機 ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。 |
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マスクアライナー「UX-1シリーズ」 | 本製品は生産終了となりました。
マスクアライナー「UX-1シリーズ」生産終了のご案内(396KB）
代替品はこちら→マニュアル機 ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。 |
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ロールtoロール投影露光装置「UFXシリーズ」 | 累積800台以上の市場実績がある、ウシオのフレキシブル基板用プロキシミティ/投影露光装置のラインナップ。専用に開発した高出力ランプ、定評のある光学系技術を駆使した投影レンズにより、高効率で高解像度な露光を実現します。 【要素技術】 |
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紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード」 | 紫外線照射装置として、LSI製造ラインで採用されている紫外線ホトレジスト硬化です。 超高圧UVランプ、エキシマランプ を搭載し、ドライエッチング時の耐プラズマ性の向上、イオン注入時のレジスト脱ガスおよび焼きしめ、電荷の消去、ストレスイレース、Low-kキュアなど、さまざまな用途で活用されています。 本製品は2023年9月末日をもって新規装置の受注を終了させていただきます。 2035年9月末までは、ランプユニット、ホットプレート等の主要保守・消耗部品につきましては、提供に問題ない体制を準備する予定です。 詳細はこちらをご覧ください |
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チャージイレース装置 | 強力な深紫外線照射により、EPROM、フラッシュメモリなどの電荷を除去。各種プラズマプロセスで問題となるチャージングを消去します。 本製品は2023年9月末日をもって新規装置の受注を終了させていただきます。 2035年9月末までは、ランプユニット、ホットプレート等の主要保守・消耗部品につきましては、提供に問題ない体制を準備する予定です。 詳細はこちらをご覧ください |
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スポットUV照射装置 「スポットキュアシリーズ」 | 約30年間にわたり培ってきた光システム技術を活かした「スポットキュア シリーズ」は、使いやすさを追求し、さらに環境にも配慮。ラインやワークの条件に合わせ、レンズやユニットなどもオプションも豊富に取り揃えています。 取扱説明書やトラブルシューティング、外観図CADデータはこちら （会員登録が必要です） |
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超高圧UVランプ（～500W) | ウシオの超高圧UVランプは、紫外線波長の中でも、特に3線（436nm・405nm・365nm)を有効に活用できるように開発されており、長寿命で安定した放射照度を持つ高輝度光源です。 アークサイズが極めて点光源に近いため、光学系での光の集中・拡散が容易で、均一な照度分布が得られます。 |
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クセノンショートアークランプ（～500W） | クセノンランプは、キセノンガスを封入した高輝度な点光源です。 可視域～赤外域までに昼光に類似した連続スペクトルを有し、演色性に優れています。 ソーラーシミュレーターやウェザーメーター、さらに分光分析や顕微鏡などの各種計測機器用光源として活用されています。 |
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コンパクトクセノンランプ | ウシオ独自の最適化設計にもとづき開発されたUXRTMｼﾘｰｽﾞは、セラミック＆サファイヤを主要部材とし耐衝撃性・耐圧性に優れたクセノンランプです。主な特色としては小型/軽量かつコンパクトなランプで、高演色性の光を効率よく取り出せるミラー一体型により、わずらわしい光軸調整も不要な構造です。 また、ウシオ独自のサファイヤ窓部構造によってランプ直置きも可能な形状です。 |
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