紫外線(UV)/エキシマ照射装置

USHO

照射パターン 波長 照射方法 照射エリア 装置種類

ユニキュア 詳しく見る

硬める スキャン照射 一括照射 200~600
スキャン:125mm~3,500mm
面光源:100~500mm
・特注対応も可能

  • スタンダードタイプ

  • 1.5kWタイプ

  • 4kWタイプ

  • 8kWタイプ

UV-LED 詳しく見る

硬める スキャン照射 一括照射 365,385,395,405
スキャン:Min60~Max3500mm ※1
※1照射器連結可能なため、Max照射エリアは拡張可能。
面光源:100~200mm ※2
※2上記サイズ以外も特注対応可能

  • EⅡHD
    EZHD

  • EⅡHC
    EZHC

  • i/iⅡ

  • iⅢ

  • iⅡSlim

SP11 詳しく見る

硬める スポット照射 300-600nm
※ブロード波長
ファイバー径
①φ3.5mm、②φ5mm
※オプションのレンズを取り付ける事により照射径可変

  • SP11

SP-LED3 詳しく見る

硬める スポット照射 365nm 標準:φ3mm、φ10mm

  • SP-LED-3

SP-IR 詳しく見る

硬める スポット照射 300nm~1000nm 標準:φ5mm

  • SP-IR

エキシマ 詳しく見る

洗浄・改質 スキャン照射 一括照射 172nm,他
スキャン:100mm~3,500mm
面光源:100~340mm
・特注対応の場合は
730mm×920mmまで可能

  • 小型実験装置(100mm対応)

  • 340mm対応面光源SSP12シリーズ
    ~対応面光源/SSP12~

  • HP-Vシリーズ

  • SVCシリーズ
    (大型基板用スタンドアロン機)

  • SVMシリーズ
    (大型基板用ステージ搬送機)

  • Film Excimerシリーズ
    (水平搬送タイプ)

光配向 詳しく見る

並べる スキャン照射 一括照射 200nm~600nm
※ブロード波長
※別途偏光波長域あり

スキャン:幅100mm~3,000mm
面光源:80mm
・特注対応は要相談

  • R&D実験機 1.5kw

  • R&D実験機 6kw

  • 量産機照射器単体

  • 量産機照射器+Stage

Deep UV
マルチライト 詳しく見る

硬める スキャン照射 一括照射 254,313,365,405 Φ135mm

  • Deep UV マルチライト