紫外線（UV）/エキシマ/大気圧プラズマ照射装置

USHIO

照射パターン 波長 照射方法 照射エリア 装置種類

エキシマ 詳しく見る

 洗浄・改質 スキャン照射 一括照射 172nm,他
スキャン：100mm～3,500mm
面光源：100～340mm
・特注対応の場合は
730mm×920mmまで可能

  • 小型実験装置（100mm対応)

  • 340mm対応面光源SSPシリーズ
    ～対応面光源／SSPシリーズ～

  • HPV-STシリーズ

  • HP-Vシリーズ

  • SVCシリーズ
    （大型基板用スタンドアロン機)

  • SVSシリーズ
    （大型基板用ステージ搬送機)

  • Film Excimerシリーズ
    （水平搬送タイプ）

UV-LED 詳しく見る

 硬める スキャン照射 一括照射 365,385,395,405
スキャン：Min60～Max3500mm ※1
※1照射器連結可能なため、Max照射エリアは拡張可能。
面光源:100～200mm ※2
※2上記サイズ以外も対応可能

  • EⅡHD
    EZHD

  • EⅡHC
    EZHC

  • i/iⅡ

  • iⅢ

  • iⅡSlim

SP11 詳しく見る

 硬める スポット照射 300-600nm
※ブロード波長		 ファイバー径
①φ3.5mm、②φ5mm
※オプションのレンズを取り付ける事により照射径可変

  • SP11

SP-LED3 詳しく見る

 硬める スポット照射 365nm 標準：φ3mm、φ10mm

  • SP-LED-3

SP-IR 詳しく見る

 硬める スポット照射 300nm～1000nm 標準：φ5mm

  • SP-IR

光配向 詳しく見る

 並べる スキャン照射 一括照射 200nm～600nm
※ブロード波長
※別途偏光波長域あり
スキャン：幅100mm～3,000mm
面光源：80mm
・特注対応は要相談

  • R&D実験機　1.5kw

  • R&D実験機　6kw

  • 量産機照射器単体

  • 量産機照射器＋Stage

Deep UV
マルチライト 詳しく見る

 硬める スキャン照射 一括照射 254,313,365,405 Φ135mm

  • Deep UV マルチライト