紫外線(UV)/エキシマ照射装置

USHO

  

並べる(一括照射)

照射パターン 波長 照射方法 照射エリア 装置種類

エキシマ 詳しく見る

洗浄・改質 スキャン照射 一括照射 172nm,他
スキャン:100mm~3,500mm
面光源:□100~340mm
・特注対応の場合は
 □730mm×920mmまで可能

  • 小型実験装置(100mm対応)

  • 340mm対応面光源SSP12シリーズ
    ~対応面光源/SSP12~

  • HP-Vシリーズ

  • SVCシリーズ
    (大型基板用スタンドアロン機)

  • SVMシリーズ
    (大型基板用ステージ搬送機)

  • Film Excimerシリーズ
    (水平搬送タイプ)

Deep UV
マルチライト 詳しく見る

硬める スキャン照射 一括照射 254,313,365,405 Φ135mm

  • Deep UV マルチライト

光配向 詳しく見る

並べる スキャン照射 一括照射 200nm~600nm
※ブロード波長
※別途偏光波長域あり

スキャン:幅100mm~3,000mm
面光源:□80mm
・特注対応は要相談

  • R&D実験機 1.5kw

  • R&D実験機 6kw

  • 量産機照射器単体

  • 量産機照射器+Stage