製品一覧
“露光“の検索結果
| 製品名 | 製品説明 | 主な用途・分野 | 波長 | ||
|---|---|---|---|---|---|
 |
LED方式平行光UV照射ユニット UV-LED Multi | 「LED方式多目的平行光ユニット」は、ウシオ独自のLED光学技術を用いて作られた、 i,h,g線それぞれを点灯・調光制御可能な平行光光源です。様々なアプリケーションにて、 LED光を用いた、新たなプロセス実現の研究・開発にて、大いに貢献します。 |
|
|
|
 |
ウシオのレーザーダイオード | ウシオのレーザーは、光における40年以上の豊富な経験に裏打ちされた確かな技術をベースに、ディスプレイ＆エンターテインメント、メディカル＆ヘルスケア、 センシング＆メジャメント（センサー、レベラー、プリンター用）、リソグラフィ（DI用）など様々なアプリケーション向けに、青紫～赤外波長帯まで幅広い製品ラインナップでお客様のご要望にお応えします。 |
|
|
|
 |
分割投影露光装置「UX-5シリーズ」 | ウシオでは、サーバーやＰＣ、スマートフォン、タブレット端末等の携帯機器に採用される最先端パッケージングアプリケーションに特化したステッパーを提供してきました。ウシオが長年培った光源・光学技術に独自の大面積投影レンズ技術を用い、パネルサイズに対応したステージを用いたパッケージ基板向けステッパーです。最先端パッケージ基板に求められる高い解像性や重ね合せ精度を実現しつつ、高生産性を達成しています。 【要素技術】
|
|
|
|
 |
投影露光装置「UX-4シリーズ」 | ウシオが長年培った光源・光学技術に独自の大面積投影レンズ技術を用いたプロジェクションアライナーです。8インチまでのウェハをマスクと非接触で一括露光することが可能です。広い焦点深度を用いた平らでないウェハに対する露光を可能にし、プロキシミティアライナーには無い高生産性、高歩留りを達成します。
【要素技術】 |
|
|
|
 |
プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」 | 本製品は生産終了となりました。
プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」生産終了のご案内(396KB）
代替品はこちら→オート機 ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。 |
|
|
|
 |
マスクアライナー「UX-1シリーズ」 | 本製品は生産終了となりました。
マスクアライナー「UX-1シリーズ」生産終了のご案内(396KB）
代替品はこちら→マニュアル機 ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。 |
|
|
|
 |
ロールtoロール投影露光装置「UFXシリーズ」 | 累積800台以上の市場実績がある、ウシオのフレキシブル基板用プロキシミティ/投影露光装置のラインナップ。専用に開発した高出力ランプ、定評のある光学系技術を駆使した投影レンズにより、高効率で高解像度な露光を実現します。 【要素技術】 |
|
|
|
 |
EUV光源 (次世代半導体用マスク検査および各種開発用途向け) | 半導体業界では、より高性能でコンパクト、更に低消費電力の半導体の実現に向け、超微細化露光技術の開発が進められています。その中で有力視されているのが波長13.5nmのEUV(Extreme Ultraviolet)光による「EUV露光」です。 ウシオは、これまで培ってきたEUVの研究・開発実績を活かし、EUV露光用のマスク検査装置向けを始め、各種開発用途向けのEUV Xe DPP およびEUV Sn LDP光源の開発を行なっています。 |
|
|
|
 |
光微細加工 | ウシオの露光技術により微細パターニングをベースとし、様々な形状加工や特殊用途の光学素子を提供いたします。 |
|
|
|
 |
多目的均一照射ユニット「Deep UV マルチライト」 | Deep UVマルチライトは均一・平行光源として豊富な実績のあるマルチライトシリーズの基本構成はそのままに波長230nm～330nmのDeep UV領域に最適化した光源ユニットです。 リソグラフィー用途はもちろん、表面改質光源、各種光化学反応評価光源としても応用頂けます。 |
|
|
|
 |
露光装置用光源ユニット 「マルチライト」 | 均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。
【この製品は、ウシオライティングの製品です】 |
|
|
|
 |
超高圧UVランプ（～500W) | ウシオの超高圧UVランプは、紫外線波長の中でも、特に3線（436nm・405nm・365nm)を有効に活用できるように開発されており、長寿命で安定した放射照度を持つ高輝度光源です。 アークサイズが極めて点光源に近いため、光学系での光の集中・拡散が容易で、均一な照度分布が得られます。 |
|
|
|
 |
超高圧UVランプ（500W～35kW） | 装置メーカーとの共同開発体制を背景に、デバイスメーカーのさまざまな要望に応える開発を進め、高い評価と信頼を得ているリソグラフィ用UVランプです。 500w～35kwクラスまでの幅広いラインナップで、生産性向上・歩留まり改善などに最適な光をご提案します。また、お客さまの新規装置開発にあわせたランプ開発も承ります。 ■取扱説明書はこちら（会員登録が必要です） ■よくあるご質問はこちら |
|
|
|
 |
Deep UVランプ | キセノンランプをベースに水銀などの金属蒸気を封入した高輝度・点光源のランプです。 230nm～320nm付近の中紫外域の放射に特徴があり、短波長を利用した光化学反応、UVキュアリング、リソグラフィなどで活用されています。 |
|
|