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製品名 製品説明 主な用途・分野 波長
Mold Type LED 「epitex」シリーズのうち、砲弾タイプのLEDです。 25年以上の豊富な経験を基に、365nmの紫外線から、1650nmの赤外線まで、幅広い波長範囲の産業用LEDをご提供しています。また、1000nm以下の製品は20nm刻みで、1000nm以上の製品でも100nm刻みで、ラインナップしているので、お客様の用途に応じた、細かな波長選択が可能です。
SMD Type LED (SMT Family) 「epitex」シリーズのうち、表面実装タイプのLEDです。 25年以上の豊富な経験を基に、365nmの紫外線から、1650nmの赤外線まで、幅広い波長範囲の産業用LEDをご提供しています。また、1000nm以下の製品は20nm刻みで、1000nm以上の製品でも100nm刻みで、ラインナップしているので、お客様の用途に応じた、細かな波長選択が可能です。
High Power LED 「epitex」シリーズのうち、高出力タイプの表面実装型LEDです。 25年以上の豊富な経験を基に、365nmの紫外線から、1650nmの赤外線まで、幅広い波長範囲の産業用LEDをご提供しています。また、1000nm以下の製品は20nm刻みで、1000nm以上の製品でも100nm刻みで、ラインナップしているので、お客様の用途に応じた、細かな波長選択が可能です。
光配向装置 ウシオの光配向技術は、高い偏光・光学・機械設計技術を駆使しており、お客様に最適な装置を提案することが可能です。 254nm、313nm、365nmを始めとした、様々な材料感度に最適な光学部品を有しております。 また、ハイパワー入力による高露光量、高均一度照射も特徴です。 小型から大型まで、お客様のワークに合った装置をご提案します。
各種製造プロセス向けUV-LED照射装置 ウシオのUV-LEDは高照度、高積算光量、長寿命、低電力、瞬時点灯/瞬時消灯を実現。 弊社はこれまで培った光学技術や冷却技術を用いた自由度のある設計が特徴です。 電源や制御部を含めたトータル提案を行い、紫外線に関わるあらゆる問題を解決するシステムを提供させて頂きます。
分割投影露光装置「UX-5シリーズ」「UX-7シリーズ」 分割投影露光装置「UX-5シリーズ」「UX-7シリーズ」

ウシオでは、サーバーやPC、スマートフォン、タブレット端末等の携帯機器に採用される最先端パッケージングアプリケーションに特化したステッパーを提供してきました。ウシオが長年培った光源・光学技術に独自の大面積投影レンズ技術を用い、パネルサイズに対応したステージを用いたパッケージ基板向けステッパーです。最先端パッケージ基板に求められる高い解像性や重ね合せ精度を実現しつつ、高生産性を達成しています。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系 ・他に類を見ない大面積投影レンズ

投影露光装置「UX-4シリーズ」 投影露光装置「UX-4シリーズ」

ウシオが長年培った光源・光学技術に独自の大面積投影レンズ技術を用いたプロジェクションアライナーです。8インチまでのウェハをマスクと非接触で一括露光することが可能です。広い焦点深度を用いた平らでないウェハに対する露光を可能にし、プロキシミティアライナーには無い高生産性、高歩留りを達成します。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系
・他に類を見ない大面積投影レンズ

プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」 プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」

ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系

マスクアライナー「UX-1シリーズ」 マスクアライナー「UX-1シリーズ」

ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系

ロールtoロール投影露光装置「UFXシリーズ」 ロールtoロール投影露光装置「UFXシリーズ」

累積800台以上の市場実績がある、ウシオのフレキシブル基板用プロキシミティ/投影露光装置のラインナップ。専用に開発した高出力ランプ、定評のある光学系技術を駆使した投影レンズにより、高効率で高解像度な露光を実現します。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系
・他に類を見ない大面積投影レンズ

紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード®」 紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード」 紫外線照射装置として、LSI製造ラインで採用されている紫外線ホトレジスト硬化です。 超高圧UVランプ、エキシマランプ を搭載し、ドライエッチング時の耐プラズマ性の向上、イオン注入時のレジスト脱ガスおよび焼きしめ、電荷の消去、ストレスイレース、Low-kキュアなど、さまざまな用途で活用されています。
チャージイレース装置 チャージイレース装置 強力な深紫外線照射により、EPROM、フラッシュメモリなどの電荷を除去。各種プラズマプロセスで問題となるチャージングを消去します。
紫外線瞬間乾燥装置「ユニキュア®システム」 紫外線瞬間乾燥装置「ユニキュアシステム」 ハイパワー、コンパクト、低温処理を実現するUV硬化・乾燥装置です。目的に応じて、ランプやUV強度、照射幅などのコンポーネントが可能です。 取扱説明書はこちら (会員登録が必要です)
スポットUV照射装置 「スポットキュア®シリーズ」 スポットUV照射装置 「スポットキュアシリーズ」 約30年間にわたり培ってきた光システム技術を活かした「スポットキュア シリーズ」は、使いやすさを追求し、さらに環境にも配慮。ラインやワークの条件に合わせ、レンズやユニットなどもオプションも豊富に取り揃えています。 取扱説明書やトラブルシューティング、外観図CADデータはこちら (会員登録が必要です)

『塗布と塗膜』2015年11月号 PDF(2.31MB)

理化学機器用光源ユニット「オプティカルモデュレックス」 理化学機器用光源ユニット「オプティカルモデュレックス」 IR、UV、可視光の平行光が卓上で簡易に取り出せ、分光器や太陽電池評価用に最適な卓上タイプの光源ユニットです。 全モデルともランプ光軸の調整が不要かつ卓上で高平行かつハイパワーな光源実験が可能です。

カタログを見る PDF(2.38MB)

露光装置用光源ユニット 「マルチライト」 露光装置用光源ユニット 「マルチライト」 均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。
【この製品は、ウシオライティングの製品です】

超高圧UVランプ(~500W) 超高圧UVランプ(~500W) ウシオの超高圧UVランプは、紫外線波長の中でも、特に3線(436nm・405nm・365nm)を有効に活用できるように開発されており、長寿命で安定した放射照度を持つ高輝度光源です。 アークサイズが極めて点光源に近いため、光学系での光の集中・拡散が容易で、均一な照度分布が得られます。
超高圧UVランプ(500W~35kW) 超高圧UVランプ(500W~35kW) 装置メーカーとの共同開発体制を背景に、デバイスメーカーのさまざまな要望に応える開発を進め、高い評価と信頼を得ているリソグラフィ用UVランプです。 500w~35kwクラスまでの幅広いラインナップで、生産性向上・歩留まり改善などに最適な光をご提案します。また、お客さまの新規装置開発にあわせたランプ開発も承ります。 ■取扱説明書はこちら(会員登録が必要です)
クセノンショートアークランプ(~500W) クセノンショートアークランプ(~500W) クセノンランプは、キセノンガスを封入した高輝度な点光源です。 可視域~赤外域までに昼光に類似した連続スペクトルを有し、演色性に優れています。 ソーラーシミュレーターやウェザーメーター、さらに分光分析や顕微鏡などの各種計測機器用光源として活用されています。
コンパクトクセノンランプ コンパクトクセノンランプ ウシオ独自の最適化設計にもとづき開発されたUXRTMシリーズは、セラミック&サファイヤを主要部材とし耐衝撃性・耐圧性に優れたクセノンランプです。主な特色としては小型/軽量かつコンパクトなランプで、高演色性の光を効率よく取り出せるミラー一体型により、わずらわしい光軸調整も不要な構造です。 また、ウシオ独自のサファイヤ窓部構造によってランプ直置きも可能な形状です。
Deep UVランプ Deep UVランプ キセノンランプをベースに水銀などの金属蒸気を封入した高輝度・点光源のランプです。 230nm~320nm付近の遠紫外域の放射に特徴があり、短波長を利用した光化学反応、UVキュアリング、リソグラフィなどで活用されています。
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