製品一覧
“EUV“の検索結果
| 製品名 | 製品説明 | 主な用途・分野 | 波長 | ||
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プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」 | 本製品は生産終了となりました。
プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」生産終了のご案内(396KB）
代替品はこちら→オート機 ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。 |
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マスクアライナー「UX-1シリーズ」 | 本製品は生産終了となりました。
マスクアライナー「UX-1シリーズ」生産終了のご案内(396KB）
代替品はこちら→マニュアル機 ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。 |
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ロールtoロール投影露光装置「UFXシリーズ」 | 累積800台以上の市場実績がある、ウシオのフレキシブル基板用プロキシミティ/投影露光装置のラインナップ。専用に開発した高出力ランプ、定評のある光学系技術を駆使した投影レンズにより、高効率で高解像度な露光を実現します。 【要素技術】 |
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EUV光源 (次世代半導体用マスク検査および各種開発用途向け) | 半導体業界では、より高性能でコンパクト、更に低消費電力の半導体の実現に向け、超微細化露光技術の開発が進められています。その中で有力視されているのが波長13.5nmのEUV(Extreme Ultraviolet)光による「EUV露光」です。 ウシオは、これまで培ってきたEUVの研究・開発実績を活かし、EUV露光用のマスク検査装置向けを始め、各種開発用途向けのEUV Xe DPP およびEUV Sn LDP光源の開発を行なっています。 |
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光微細加工 | ウシオの露光技術により微細パターニングをベースとし、様々な形状加工や特殊用途の光学素子を提供いたします。 |
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紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード」 | 紫外線照射装置として、LSI製造ラインで採用されている紫外線ホトレジスト硬化です。 超高圧UVランプ、エキシマランプ を搭載し、ドライエッチング時の耐プラズマ性の向上、イオン注入時のレジスト脱ガスおよび焼きしめ、電荷の消去、ストレスイレース、Low-kキュアなど、さまざまな用途で活用されています。 本製品は2023年9月末日をもって新規装置の受注を終了させていただきます。 2035年9月末までは、ランプユニット、ホットプレート等の主要保守・消耗部品につきましては、提供に問題ない体制を準備する予定です。 詳細はこちらをご覧ください |
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チャージイレース装置 | 強力な深紫外線照射により、EPROM、フラッシュメモリなどの電荷を除去。各種プラズマプロセスで問題となるチャージングを消去します。 本製品は2023年9月末日をもって新規装置の受注を終了させていただきます。 2035年9月末までは、ランプユニット、ホットプレート等の主要保守・消耗部品につきましては、提供に問題ない体制を準備する予定です。 詳細はこちらをご覧ください |
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スポットUV照射装置 「SP-LED-3」 | 世の中のニーズである「安価」、「使いやすさ」、「水銀レス」を追求したLEDタイプのスポットキュア。 ヘッドの種類はΦ3mm～Φ10mmまで取り揃えており、必要なエリアへの照射が可能です。 取扱説明書はこちら（会員登録が必要です） |
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検査用光源ユニット「arctruth （旧オプティカルモデュレックス、230VILS）」 | “見たいものが正確に見える”ことが必須の検査プロセスにおいて、特に「検査のプロフェッショナルユース」をコンセプトとした光源ユニットです。 |
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多目的均一照射ユニット「Deep UV マルチライト」 | Deep UVマルチライトは均一・平行光源として豊富な実績のあるマルチライトシリーズの基本構成はそのままに波長230nm～330nmのDeep UV領域に最適化した光源ユニットです。 リソグラフィー用途はもちろん、表面改質光源、各種光化学反応評価光源としても応用頂けます。 |
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露光装置用光源ユニット 「マルチライト」 | 均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。
【この製品は、ウシオライティングの製品です】 |
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光化学反応用実験装置 | 光化学反応実験装置の反応槽は硬質ガラスでできており、光源冷却管は使用目的に応じ波長の透過率からパイレックスまたは石英を選ぶことができます。 反応槽の容量はそれらの用途により300ml 、500ml、1,000ml、3,000ml、10,000ml の5 種類をご用意し、適合光源は高圧UV ランプ(UM-102,UM-452)、および低圧UV ランプ(ULO-6DQ)の光源に使用できます。 また、光源冷却管は水冷用二重管を採用し、UV ランプ等の放射される熱を吸収する構造になっています。なお、部品の接触部はすべてJIS 規格のスリ合せになっていますので、互換性があります。 |
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超高圧UVランプ（～500W) | ウシオの超高圧UVランプは、紫外線波長の中でも、特に3線（436nm・405nm・365nm)を有効に活用できるように開発されており、長寿命で安定した放射照度を持つ高輝度光源です。 アークサイズが極めて点光源に近いため、光学系での光の集中・拡散が容易で、均一な照度分布が得られます。 |
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超高圧UVランプ（500W～35kW） | 装置メーカーとの共同開発体制を背景に、デバイスメーカーのさまざまな要望に応える開発を進め、高い評価と信頼を得ているリソグラフィ用UVランプです。 500w～35kwクラスまでの幅広いラインナップで、生産性向上・歩留まり改善などに最適な光をご提案します。また、お客さまの新規装置開発にあわせたランプ開発も承ります。 ■取扱説明書はこちら（会員登録が必要です） ■よくあるご質問はこちら |
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クセノンショートアークランプ（～500W） | クセノンランプは、キセノンガスを封入した高輝度な点光源です。 可視域～赤外域までに昼光に類似した連続スペクトルを有し、演色性に優れています。 ソーラーシミュレーターやウェザーメーター、さらに分光分析や顕微鏡などの各種計測機器用光源として活用されています。 |
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データプロジェクタ用ランプ | 小型、高輝度、フリッカーレス、高信頼性を実現したランプです。ビジネスから教育、ホームシアターへと拡大するプロジェクタの高性能化をサポートしています。 |
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コンパクトクセノンランプ | ウシオ独自の最適化設計にもとづき開発されたUXRTMｼﾘｰｽﾞは、セラミック＆サファイヤを主要部材とし耐衝撃性・耐圧性に優れたクセノンランプです。主な特色としては小型/軽量かつコンパクトなランプで、高演色性の光を効率よく取り出せるミラー一体型により、わずらわしい光軸調整も不要な構造です。 また、ウシオ独自のサファイヤ窓部構造によってランプ直置きも可能な形状です。 |
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Deep UVランプ | キセノンランプをベースに水銀などの金属蒸気を封入した高輝度・点光源のランプです。 230nm～320nm付近の中紫外域の放射に特徴があり、短波長を利用した光化学反応、UVキュアリング、リソグラフィなどで活用されています。 |
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ハロゲンランプヒータ | ハロゲンランプヒータとは、ハロゲンランプの赤外域の光を、効率よく取り出すために開発された加熱源で、投入電力の85％以上が熱に変換され、非常に高効率なエネルギー源です。 ハロゲンランプヒータによる加熱は、フレキシビリティとコントロール性に富み、ほかの熱源にない優れた特徴を有し、半導体・LCD等の電子デバイス製造プロセス、自動車部品加熱、CFRP等の樹脂素材加熱など、さまざまな産業分野にてウシオの熱処理システムが適用されています。 |
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瞬間加熱・高温焼成 フラッシュランプアニール | UVから可視・赤外域までの連続波長を有したクセノンフラッシュランプの光により、数百μsec～数十msecの点灯時間で、基板・材料の表面へ非接触・瞬間加熱を実現。 Si／SiCウェーハ、ガラス、プラスチックフィルム、フレキシブル基板など多様な研究開発から生産（製造）ライン用途まで適用が可能です。 |
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プリンティング市場向けハロゲンヒーター | ハロゲンランプが放射する光を熱として利用したのがハロゲンヒータです。 コピー機及びLBP（レーザービームプリンター）のトナー定着用途として長年の実績があり、近年ではインクジェットプリンター、オフセット印刷機（枚葉機、輪転機）向けにも幅広く展開しています。 また、エナジースター等の環境規制に適した、ユーザーのご要望にお応えするカスタム対応が可能です。 |
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